论文研究 - 气敏应用金属有机化学气相沉积铬掺杂氧化锌薄膜的合成与表征

上传者: 38699593 | 上传时间: 2024-01-14 21:15:33 | 文件大小: 5.47MB | 文件类型: PDF
掺杂铬(Cr)的氧化锌ZnO薄膜通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术在420°C的温度下以不同的掺杂剂浓度沉积在玻璃基板上。 研究了铬浓度对薄膜的形态,结构,光学,电学和气敏性能的影响。 扫描电子显微镜结果表明,Cr的浓度对结晶度,表面光滑度和晶粒尺寸有很大的影响。 X射线衍射(XRD)研究表明,薄膜本质上是多晶的,并以六方纤锌矿结构生长。 从光学测量获得3.32至3.10 eV的直接光学带能隙。 发现透射率随着Cr掺杂浓度的增加而降低。 卢瑟福背散射光谱(RBS)分析还表明,Cr离子可替代地掺入ZnO中。 薄膜的IV特性显示,室温下的电阻率范围为1.134×10-2·cm至1.24×10-2·cm。 通过在最佳工作温度约为200°C的条件下掺入Cr作为掺杂剂,可以增强薄膜的气体传感响应。

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